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顳葉癲癇別名:顳葉性癲癇

顳葉癲癇 的檢查:

  無異常表現(xiàn)。

  顳葉癲癇時可進行如下檢查:

  1.結構性影像學檢查 結構性神經(jīng)影像學評估包括CT、MRI、MRS、fMRI等檢查法。它們是當今最常用的方法,能夠查出結構性腦病變的存在及其部位,CT能發(fā)現(xiàn)明顯的結構性病變,如腫瘤,AVM,鈣化,萎縮性病變等,但MRI比CT診斷顳葉癲癇更加敏感,不僅能查出腫瘤,錯構瘤,海綿狀血管瘤,還有皮質(zhì)發(fā)育異常以及顳葉內(nèi)側硬化-海馬硬化,MRI可查出90%的顳葉內(nèi)側硬化。在冠狀位像上T2加權像或FLAIR像上顯示內(nèi)側顳葉有增高的信號。T1加權像可清晰地顯示顳葉海馬萎縮。進行MRI海馬容積測定,更能定量地查出海馬萎縮,而且特異性和敏感性極高,能對76%~93%的海馬硬化病人準確定位。是診斷顳葉內(nèi)側癲癇最直觀的方法。中國人海馬正常值:右側海馬為2.95cm3±0.3cm3(下限是2.62cm3);左側海馬為2.8cm3±0.3cm3(下限為2.48cm)。但海馬體積如在臨界值時或體積無明顯異常時,需仔細觀察FLAIR T2WI圖像上海馬信號的改變,當海馬膠質(zhì)增生時,其體積可不縮小,而表現(xiàn)為信號的明顯增高。MRS是目前惟一無創(chuàng)活體顯示組織代謝的影像學方法,常測的波峰有:①NAA(N-乙酰天門冬氨酸),幾乎只位于神經(jīng)元之內(nèi);②Cho(膽堿);③)Cr(肌酸)。后兩者在膠質(zhì)細胞中含量較高,可作為神經(jīng)膠質(zhì)增生的標志。臨床上常用NAA與Cr或Cr Cho的比值作為判斷正常與否的標準。在正常的灰質(zhì),多以>0.6為正常標準。用NAA/Cr Cho值對顳葉癲癇進行定側診斷的敏感性達75%~88%,比MRI和PET更敏感。

  2.功能性神經(jīng)影像檢查 功能性磁共振成像(fMRI)可有助于顳葉癲癇的定側,并能測出癇灶和其腦重要功能區(qū)的部位,有人認為fMRI可以代替經(jīng)典的頸動脈Amytal試驗,減輕病人的痛苦。核醫(yī)學儀器的迅速發(fā)展,已經(jīng)能夠三維顯示局部腦血流灌注和葡萄糖代謝及多種受體的分布,有單光子發(fā)射計算機斷層掃描(single photo emission computed tomography,SPECT)和正電子發(fā)射斷層掃描(positron emission computed tomography,PET)。SPECT研究證實癲癇發(fā)作間期癇灶呈低灌注血流,發(fā)作期癇灶血流灌注明顯增加。顳葉癲癇病人在發(fā)作期97%呈異常腦血流高灌注。PET常用腦代謝顯像-18F-FDG測定局部腦葡萄糖代謝率,在顳葉癲癇病人,有70%~80%的病人,于發(fā)作間期單側顳葉葡萄糖率降低。發(fā)作期呈高代謝狀態(tài)。這種方法有人認為可以代替深部電極和皮質(zhì)ECoG的應用。不過PET所見的低代謝范圍一般較實際的病變范圍要大,它是一種無創(chuàng)傷的檢查方法,它是一種分子核醫(yī)學的高尖技術。并可通過三維重建直觀的進行癲癇灶定位。尤其對結構性影像檢查陰性的癲癇可做出正確診斷。不過應與電生理檢查結果相一致,其癇灶的定位可靠性就大。

  3.腦電圖檢查(EEG) 是對本病定測定位的主要手段。一般頭皮電極的診斷率只可使1/4病人得到確診,故應加用咽部或蝶骨電極以提高診斷的準確率。對顳葉癲癇的病人EEG反復多次檢查包括發(fā)作期與發(fā)作間歇期、停藥前后、睡眠期或禁睡期,將會進一步提高診斷率。在顳葉癲癇淺睡眠狀態(tài)下記錄EEG所發(fā)現(xiàn)的顳葉癲癇的異常波比清醒狀態(tài)可提高達80%。

  在一側顳葉病變引起兩側顳葉異常放電活動屢有報道,這主要是由海馬經(jīng)過邊緣系統(tǒng)環(huán)路放電擴散的結果。在這種情況下如何確定癇灶側,對手術治療十分必要,如遇兩側顳葉都有放電,則應在一側頸動脈注射異戊巴比妥200mg后該側癲癇放電消失,而另一側繼續(xù)存在,更換另一側頸動脈注射異戊巴比妥進行同上試驗,當病側注藥后,則兩側顳葉癇性放電均消失,而對側注藥后只能使同側消失此乃鏡面灶側。最近有人采用深部埋藏電極,將電極置入杏仁核及海馬,進行長時間(幾天至幾周)檢查,可提供最有價值的結果。

  術前腦電圖評估目前仍然是最重要的癲癇診斷和癇灶定位方法,由于腦電技術的發(fā)展迅速,一些具有高抗干擾能力,對癲癇灶定位精確度高,又能視頻監(jiān)護和數(shù)字圖像幀同步、同屏采集及回放,分析系統(tǒng)的無紙腦電圖儀已能滿足臨床上的需要,無疑方便了神經(jīng)外科醫(yī)師的工作。但常規(guī)的腦電圖檢查和分析仍需腦電圖醫(yī)師重視,如對顳葉癲癇病人需加作蝶骨電極和(或)卵圓孔電極腦電圖檢查,是極其重要的。對于顳葉癲癇病人來說,術前進行視頻腦電(VEEG)監(jiān)測,確定癲癇灶是必不可少的一項重要檢查。另外,在術前評估時,在某些情況下(癇灶不易定位時),需采用有微創(chuàng)的顱內(nèi)電極植入法記錄腦電活動,明確癇灶部位。如植入深部電極(通過立體定向手術方法),或將釘狀電極植入于硬膜外,或將條狀電極或網(wǎng)狀電極植入于硬腦膜下。應有選擇地采用該項檢查,精確地測出癇灶的范圍和其致癇性。在圍手術期(也即開顱手術期間)直接用電極記錄腦表面皮質(zhì)的電活動(ECoG)和直接用徒手插入深電極于顳葉深部的杏仁、海馬結構記錄有無致癇活動存在。除了明確致癇的神經(jīng)元外,還能了解手術切除致癇腦組織的界線。

  顳葉癲癇發(fā)作間期頭皮EEG可呈如下表現(xiàn):

  (1)無異常。

  (2)背景活動輕度或顯著的不對稱。

  (3)顳葉棘波、尖波和(或)慢波,單側或雙側同步的,但也可不同步的。這些異常并不總限于顳區(qū)。

  (4)除了頭皮EEG異常外,顱內(nèi)描記能更準確地發(fā)現(xiàn)發(fā)作間期異常的顱內(nèi)分布。

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